구분 | 내용 |
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품질 |
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기술 |
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가격 |
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품명 | 제품용도 및 설명 |
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Focus Ring |
플라즈마 형성후 챔버내의 플라즈마가 정확한 위치로 모이게 하는 역할과 절연기능 수행. 최근 Si Focus Ring으로 일부 대체되고 있다. |
2단 Ring | 플라즈마의 압력을 제어하는 역할을 한다. |
Belljar | 마이크로파를 투과시켜 플리즈마 형성을 제어하는 역활 |
Boat류 |
열산화막 확산 CVD(Chemical Vapor Deposition)공정에서 사용되며, 웨이퍼를 공정에 이송 하기 위한 용기로서 사용된다. |
Tube류 |
산화막 형성 또는 확산 공정에 사용되며 Boat류 제품을 감싸는 형태의 Quartz반응로이다. |
Cap류 | Quartz를 받쳐주는 제품으로 내부의 열손실이 없도록 보온역할을 한다. |
Bath류 |
Wafer세정공정과 Etching공정에서 Wafer에 손상을 주지 않으면서 담을 수 있는 사각의 통 |
기타 주요제품 | Wide Pocket, Shadow Ring, Base Plate, Lifter Pin, Shield Ring...etc. |
Purity(%) 순도 | 99.99 |
Bulk Density(g/cm³) 밀도 | >2.15 |
Load0.5Kg HV1=9.807N Vickers Hardness(GPa) 비커스경도 | 8.6 |
Bending Strength(MPa) 굽힘강도 | 70 |
Compressive Strength(MPa) 압축강도 | 1100 |
Poissons Ratio 포아손비 | 0.17 |
Thermal Conductivity(W/mK)열전도 | 1.5 |
Thermal Expansion(x10-6/°C) 열팽창계수 | 4.3 |
Specific Heat([RT]J/kg.K)비열 | 0.2 |
Volume Resistivity(Ω. ㎝)체적고유사항 | >1014 |
Dielectric Constant(25°C 1MHz)유전상수 | 3.75 |